Method for production of multilayer NITRide FILM

• Main Authors: KLIAHINA NATALIIA AFANASIVNA, VASETSKA LARYSA OLEKSANDRIVNA, DZIUBA VIACHESLAV LEONIDOVYCH
• Format: Patent
• Language: English; Russian; Ukrainian
• Published: 25.06.2010
• Subjects: CHEMICAL SURFACE TREATMENT; CHEMISTRY; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; COATING METALLIC MATERIAL; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL; METALLURGY; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION

A method for production of multilayer nitride film WN/TiN/TiOincludes target sputtering, forming a film by ion implantation into the grating of cold polycrystalline tungsten substrate of ionized atoms of titanium target and reactive nitrogen gas. Film of WN/TiN is covered from the outside with layer of titanium oxide. Способ получения нитриднои пленки WN/TiN/TiOвключает распыление мишени, формирование пленки в результате ионной имплантации в решетку холодной поликристаллической подложки вольфрама ионизированных атомов титановой мишени и реактивного газа азота. Пленку WN/TiN покрывают снаружи слоем оксида Ti. Спосіб одержання нітридної плівки WN/TiN/TiOвключає розпилення мішені, формування плівки в результаті іонної імплантації у ґратку холодної полікристалічної підкладки вольфраму іонізованих атомів титанової мішені і реактивного газу азоту. Плівку WN/TiN покривають зовні прошарком оксиду Ті.