Sulfur Production

يتعلق الاختراع الحالي بنظام يتضمن غرفة أولى first chamber ، وغرفة ثانية second chamber ، ومصدر ضوء أشعة فوق بنفسجية ultraviolet light source ومصدر موجات دقيقة microwave source. تتضمن الغرفة الأولى first chamber مدخل inlet. تكون الغرفة الثانية second chamber مجاورة للغرفة الأولى first chamber وتتضمن...

Full description

Saved in:
Bibliographic Details
Main Author Kamal JAFFREY
Format Patent
LanguageArabic
English
Published 21.12.2023
Online AccessGet full text

Cover

Loading…
More Information
Summary:يتعلق الاختراع الحالي بنظام يتضمن غرفة أولى first chamber ، وغرفة ثانية second chamber ، ومصدر ضوء أشعة فوق بنفسجية ultraviolet light source ومصدر موجات دقيقة microwave source. تتضمن الغرفة الأولى first chamber مدخل inlet. تكون الغرفة الثانية second chamber مجاورة للغرفة الأولى first chamber وتتضمن مخرج outlet ودليل موجي waveguide. يستقر مصدر ضوء الأشعة فوق البنفسجية ultraviolet light source داخل الدليل الموجي waveguide للغرفة الثانية second chamber. كما يتم وصف جهاز، ونظم، وتقنيات ومنتجات ذات صلة. شكل 8. A system includes a first chamber, a second chamber, an ultraviolet light source and a microwave source. The first chamber includes an inlet. The second chamber is adjacent the first chamber and includes an outlet and a waveguide. The ultraviolet light source resides within the waveguide of the second chamber. Related apparatus, systems, techniques and articles are also described. Fig 8.
Bibliography:Application Number: SA20225432836