PLASMA FURNACE FOR CORUNDUM PRODUCTION
FIELD: metallurgy.SUBSTANCE: invention relates to the field of metallurgy, in particular to the design of plasma furnaces. The furnace lining is multi-layer. The first layer is made of a material with a thermal conductivity of at least 150 W/(m·K) and a thickness of at least 0.05 m. The second layer...
Saved in:
Main Authors | , , , , , , , , |
---|---|
Format | Patent |
Language | English Russian |
Published |
19.04.2021
|
Subjects | |
Online Access | Get full text |
Cover
Loading…
Summary: | FIELD: metallurgy.SUBSTANCE: invention relates to the field of metallurgy, in particular to the design of plasma furnaces. The furnace lining is multi-layer. The first layer is made of a material with a thermal conductivity of at least 150 W/(m·K) and a thickness of at least 0.05 m. The second layer and the third layer are made of a material with a thermal conductivity of 1 to 5 W/(m·K) and a thickness of 0.1 to 0.15 m. The fourth layer is made of a material with a thermal conductivity of 0.1 to 0.5 W/(m·K) and a thickness of at least 0.15 m. Sheets of molybdenum are rigidly fixed to the inner part of the first lining layer.EFFECT: invention makes it possible to increase stability of the thermal balance of the plasma furnace while increasing the chemical purity of the obtained corundum.1 cl, 2 tbl, 2 dwg
Изобретение относится к области металлургии, в частности к конструкции плазменных печей. Футеровка печи выполнена многослойной, при этом первый слой выполнен из материала с теплопроводностью не менее 150 Вт/(м⋅К) толщиной не менее 0,05 м, второй слой и третий слой выполнены из материала с теплопроводностью от 1 до 5 Вт/(м⋅К) толщиной от 0,1 до 0,15 м, а четвертый слой выполнен из материала с теплопроводностью от 0,1 до 0,5 Вт/(м⋅К) толщиной не менее 0,15 м, при этом на внутренней части первого слоя футеровки жестко закреплены листы из молибдена. Изобретение позволяет повысить стабильность теплового баланса плазменной печи при повышении химической чистоты получаемого корунда. 2 табл., 2 ил. |
---|---|
Bibliography: | Application Number: RU20200136471 |