METHOD FOR NITRIDING OF OXIDE COMPOUNDS IN A SOLID PHASE
FIELD: technological processes.SUBSTANCE: invention relates to the field of thermo-chemical treatment of materials. Method of plasma nitriding of silicon oxide in a solid phase in a controlled medium involves exposure of the said silicon oxide to low-temperature nitrogen plasma at atmospheric pressu...
Saved in:
Main Authors | , , , , |
---|---|
Format | Patent |
Language | English Russian |
Published |
03.02.2020
|
Subjects | |
Online Access | Get full text |
Cover
Loading…
Summary: | FIELD: technological processes.SUBSTANCE: invention relates to the field of thermo-chemical treatment of materials. Method of plasma nitriding of silicon oxide in a solid phase in a controlled medium involves exposure of the said silicon oxide to low-temperature nitrogen plasma at atmospheric pressure for 7-10 seconds. Low-temperature nitric plasma is generated by direct-current plasmatron with mass-average temperature of plasma flow 7÷10 kK.EFFECT: considerable reduction of the period of nitration of zinc oxide in the solid phase, approximately by 3 orders, and obtaining of high performance characteristics of oxide compounds.1 cl, 1 dwg
Изобретение относится к области термо-химической обработки материалов. Способ плазменного азотирования оксида кремния в твердой фазе в контролируемой среде включает воздействие на упомянутый оксид кремния низкотемпературной азотной плазмой при атмосферном давлении в течение 7-10 секунд. Низкотемпературную азотную плазму генерируют плазмотроном постоянного тока со среднемассовой температурой плазменного потока 7÷10 кK. Обеспечивается значительное уменьшение, примерно на 3 порядка, времени азотирования оксида цинка в твердой фазе и получение высоких эксплуатационных характеристик оксидных соединений. 1 ил.. |
---|---|
Bibliography: | Application Number: RU20190132757 |