METHOD FOR NITRIDING OF OXIDE COMPOUNDS IN A SOLID PHASE

FIELD: technological processes.SUBSTANCE: invention relates to the field of thermo-chemical treatment of materials. Method of plasma nitriding of silicon oxide in a solid phase in a controlled medium involves exposure of the said silicon oxide to low-temperature nitrogen plasma at atmospheric pressu...

Full description

Saved in:
Bibliographic Details
Main Authors Muslimov Arsen Emirbegovich, Kanevskij Vladimir Mikhajlovich, Tyuftyaev Aleksandr Semenovich, Butashin Andrej Viktorovich, Gadzhiev Makhach Khajrudinovich
Format Patent
LanguageEnglish
Russian
Published 03.02.2020
Subjects
Online AccessGet full text

Cover

Loading…
More Information
Summary:FIELD: technological processes.SUBSTANCE: invention relates to the field of thermo-chemical treatment of materials. Method of plasma nitriding of silicon oxide in a solid phase in a controlled medium involves exposure of the said silicon oxide to low-temperature nitrogen plasma at atmospheric pressure for 7-10 seconds. Low-temperature nitric plasma is generated by direct-current plasmatron with mass-average temperature of plasma flow 7÷10 kK.EFFECT: considerable reduction of the period of nitration of zinc oxide in the solid phase, approximately by 3 orders, and obtaining of high performance characteristics of oxide compounds.1 cl, 1 dwg Изобретение относится к области термо-химической обработки материалов. Способ плазменного азотирования оксида кремния в твердой фазе в контролируемой среде включает воздействие на упомянутый оксид кремния низкотемпературной азотной плазмой при атмосферном давлении в течение 7-10 секунд. Низкотемпературную азотную плазму генерируют плазмотроном постоянного тока со среднемассовой температурой плазменного потока 7÷10 кK. Обеспечивается значительное уменьшение, примерно на 3 порядка, времени азотирования оксида цинка в твердой фазе и получение высоких эксплуатационных характеристик оксидных соединений. 1 ил..
Bibliography:Application Number: RU20190132757