METHOD OF REMOVING WASTE GASES OF SILANE

• Main Authors: BARABANOV VALERIJ GEORGIEVICH, KOMAROV EVGENIJ VALER'EVICH, BLINOV IL'JA ANDREEVICH, KURAPOVA EKATERINA SERGEEVNA, KAMBUR PAVEL SERGEEVICH, MUKHORTOV DMITRIJ ANATOL'EVICH, TRUKSHIN IGOR' GEORGIEVICH, PETROV VALENTIN BORISOVICH
• Format: Patent
• Language: English; Russian
• Published: 20.05.2012
• Subjects: CHEMISTRY; COMPOUNDS THEREOF; INORGANIC CHEMISTRY; METALLURGY; NON-METALLIC ELEMENTS; PERFORMING OPERATIONS; PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL; SEPARATION; TRANSPORTING

FIELD: process engineering. ^ SUBSTANCE: invention relates to methods of cleaning waste gases of silane SiH4. Proposed method comprises bringing air oxygen in interaction with silane to form solid silicon dioxide to be separated by filtration thereafter. Note here that waste gases containing silane are mixed with air and fed into ''tunnel burner''-type reactor furnished with jacket with heat carrier. Gas stays in reactor for 1 to 10 s at silane-to-oxygen ratio of 1:2 to 1:10. ^ EFFECT: removing silane to content of not over 0,001 vol %. ^ 3 cl, 2 dwg, 3 tbl, 3 ex Изобретение относится к способам очистки отходящих газов от содержащегося в них силана SiH4. Способ включает взаимодействие силана с кислородом воздуха с образованием твердого диоксида кремния, с последующим отделением диоксида кремния фильтрацией. При этом отходящие газы, содержащие силан, смешивают с воздухом и подают на взаимодействие в реактор типа «туннельная горелка», снабженный рубашкой с теплоносителем. Время пребывания газа в реакторе от 1 до 10 сек, объемное соотношение силан:кислород от 1:2 до 1:10. Обеспечивается очистка отходящих газов от силана до его содержания не более 0,001 об.%, простота в аппаратурном оформлении и возможность обработки газа, содержащего силан в широком диапазоне концентраций. 2 з.п. ф-лы, 2 ил., 3 табл., 3 пр.