ANTISTATIC COMPOSITIONS

Compozitiile antistatice, conform inventiei, sînt constituite din 20...85 p/g poliglicoliesteri cu formula generala I: în care R este un radical alchil cu 10...20 atomi de carbon cînd m=0 iar n=5...15 de preferinta 8...10 sau aril cînd n=1 si n=4...10, de preferinta 5...6,0...60 p/g alchilpoliglicol...

Full description

Saved in:
Bibliographic Details
Main Authors RAICU PETRUTA, BADOI LETITIA MARIOARA, DINCA VIORICA MIOARA, MAURER EWALD VILIAN, WINCZE MARTIN ANTONIU
Format Patent
LanguageEnglish
Romanian
Published 01.12.1985
Subjects
ADHESIVES
CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS
CHEMISTRY
COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES ORLACQUERS
CORRECTING FLUIDS
DYES
FILLING PASTES
INKS
MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FORELSEWHERE
METALLURGY
MISCELLANEOUS APPLICATIONS OF MATERIALS
MISCELLANEOUS COMPOSITIONS
NATURAL RESINS
PAINTS
PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING
POLISHES
USE OF MATERIALS THEREFOR
WOODSTAINS
Online AccessGet full text

Cover

More Information
Summary:Compozitiile antistatice, conform inventiei, sînt constituite din 20...85 p/g poliglicoliesteri cu formula generala I: în care R este un radical alchil cu 10...20 atomi de carbon cînd m=0 iar n=5...15 de preferinta 8...10 sau aril cînd n=1 si n=4...10, de preferinta 5...6,0...60 p/g alchilpoliglicolieteri cu formula generala II în calitate de antistatizant: R-COO-(CH-CH2O)n-1CH2CH2OH în care R reprezinta radicali alchil cu 16...22 atomi de carbon iar n=16...20, de preferinta 10,0...3 p/g produse de alunecare care au formula generala IIi: R-CO-NH(CH2-CH2O)n-1CH2CH2Oh în care R este radical alchil cu 12...22 atomi de carbon de preferinta 18 atomi de carbon iar n=3...21, de preferinta 13,12...15 p/g produse de umectare polialcoolipolietoxilati cu formula generala generala IV (vezi formula)
Bibliography:Application Number: RO19830112206