WATER-SOLUBLE AND PHOTOSENSITIVE ACRYLIC CO-POLYMER PRODUCTION METHOD

Inventia se fata se refera la un procedeu de obtinere a unui copolimer acrilic hidrosolubil, fotosensibil, utilizabil în realizarea circuitelor electronice imprimate. procedeul consta în copolim,erizarea în solutie alcoolica a unui amestec de acrilat de etil, acid acrilic si eter metilic al N-metilo...

Full description

Saved in:
Bibliographic Details
Main Authors PATACHIA FLORICA-SILVIA-CRISTINA, BRANDSCH JOHANNES-ADOLF, YUHOS CSABA, GRUNWALD ERNEST
Format Patent
LanguageEnglish
Romanian
Published 30.08.1991
Subjects
CHEMISTRY
COMPOSITIONS BASED THEREON
ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
ELECTRICITY
MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVINGCARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
METALLURGY
ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS
PLASMA TECHNIQUE
PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OFNEUTRONS
PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMICBEAMS
THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP
Online AccessGet full text

Cover

More Information
Summary:Inventia se fata se refera la un procedeu de obtinere a unui copolimer acrilic hidrosolubil, fotosensibil, utilizabil în realizarea circuitelor electronice imprimate. procedeul consta în copolim,erizarea în solutie alcoolica a unui amestec de acrilat de etil, acid acrilic si eter metilic al N-metilolacrilamidei în prezenta unui regulator de catena de tip mercaptanic. Copolimerul obtinut conform acestui procedeu, are proprietati fotosensibile, evidentiind o mare putere de rezolutie si stabilitate în timp. Fotorezistul are resistenta buna si prezinta stabilitate în mediu bazic.
Bibliography:Application Number: RO19880135009