RF 연결을 위한 열 절연을 갖는 웨이퍼 척 조립체

하나 이상의 플라즈마 전극을 갖는 플래튼, 및 하나 이상의 플라즈마 전극에 전기적으로 커플링된 적어도 하나의 RF(radio frequency) 도체를 포함하는 RF 조립체를 포함하는 웨이퍼 척 조립체가 설명된다. 적어도 하나의 RF 도체는 하나 이상의 플라즈마 전극에 커플링된 로드 팁 및 중공 내부를 갖는 열 초크에 기계적으로 커플링된 로드 스템을 갖는 로드를 포함한다. 로드는 제1 전기 전도성 재료를 포함하고 제1 폭 및 제1 길이를 갖는다. 열 초크는 제2 전기 전도성 재료를 포함하고, 제2 폭 및 제2 길이를 갖고; 제2 폭...

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Main Authors BELOSTOTSKIY SERGEY G, CHANDRASEKHARAN RAMESH, VAHIDI MAHMOUD, BREILING PATRICK G, THOMAS TIMOTHY S, HOLLINGSWORTH JOEL
Format Patent
LanguageKorean
Published 19.09.2024
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Summary:하나 이상의 플라즈마 전극을 갖는 플래튼, 및 하나 이상의 플라즈마 전극에 전기적으로 커플링된 적어도 하나의 RF(radio frequency) 도체를 포함하는 RF 조립체를 포함하는 웨이퍼 척 조립체가 설명된다. 적어도 하나의 RF 도체는 하나 이상의 플라즈마 전극에 커플링된 로드 팁 및 중공 내부를 갖는 열 초크에 기계적으로 커플링된 로드 스템을 갖는 로드를 포함한다. 로드는 제1 전기 전도성 재료를 포함하고 제1 폭 및 제1 길이를 갖는다. 열 초크는 제2 전기 전도성 재료를 포함하고, 제2 폭 및 제2 길이를 갖고; 제2 폭은 제1 폭 이상이다. Described is a wafer chuck assembly comprising a platen with one or more plasma electrodes, and a radio frequency (RF) assembly comprising at least one RF conductor electrically coupled to the one or more plasma electrodes. The at least one RF conductor comprises a rod with a rod tip coupled to the one or more plasma electrodes, and a rod stem mechanically coupled to a thermal choke with a hollow interior. The rod comprises a first electrically conductive material and has a first width and a first length. The thermal choke comprises a second electrically conductive material, and has a second width and a second length; and the second width is equal or greater than the first width.
Bibliography:Application Number: KR20247021988