OPTIMAL DETERMINATION OF AN OVERLAY TARGET

• Main Authors: GOPINATHAN MOHAN, ITZKOVICH TAL, HOUCHENS KEVIN RYAN, PERRY JENNY, SHENOY RAHUL, MANAPARAMBIL ARJUN DAS, BALODHI JATIN, BOMSHTEIN NAHUM
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 30.08.2024
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; SEMICONDUCTOR DEVICES

시스템들 및 방법들이 제공되며, 이는, 복수의 적층된 층들을 포함하는 복수의 주어진 오버레이 타겟들 각각의 설계 데이터를 획득하는 것, 전자 빔 검사 시스템에 의해 취득되었을 각각의 주어진 오버레이 타겟의 이미지 데이터를 시뮬레이션하기 위해 설계 데이터의 적어도 일부를 사용하는 것, 각각의 주어진 오버레이 타겟의 실제 제조 이전에, 각각의 주어진 오버레이 타겟이 설계 데이터에 따라 제조될 시 오버레이 측정 프로세스에서 측정 품질 기준을 충족시키는 측정 데이터를 제공할 추정 확률에 대한 정보를 주는 제2 데이터를 결정하기 위해, 이미지 데이터를 사용하는 것, 및 복수의 상이한 오버레이 타겟들 중에서 적어도 하나의 최적의 오버레이 타겟을 선택하기 위해 각각의 주어진 오버레이 타겟의 제2 데이터를 사용하는 것 - 적어도 하나의 최적의 오버레이 타겟은 반도체 시편 상에 실제로 제조되는 데 사용가능함 - 을 포함한다. There are provided systems and methods comprising obtaining design data of each of a plurality of given overlay targets comprising a plurality of stacked layers, using at least part of the design data to simulate image data of each given overlay target that would have been acquired by an electron beam examination system, using the image data to determine, before actual manufacturing of each given overlay target, second data informative of estimated probability that each given overlay target, upon being manufactured according to the design data, provides measurement data in an overlay measurement process meeting a measurement quality criterion, and using the second data of each given overlay target to select at least one optimal overlay target among the plurality of different overlay targets, wherein the at least one optimal overlay target is usable to be actually manufactured on the semiconductor specimen.