MATERIAL AND METHOD FOR FORMING THIN FILM SEMICONDUCTOR SUBSTRATE AND SEMICONDUCTOR DEVICE PREPARED THEREFROM

• Main Authors: NAM JI HYUN, YEON CHANG BONG, CHO DEOK HYUN, JUNG JAE SUN
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 30.08.2024
• Subjects: CHEMICAL SURFACE TREATMENT; CHEMISTRY; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; COATING METALLIC MATERIAL; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL; METALLURGY; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION

본 발명은 박막 형성 물질, 박막 형성 방법, 이로부터 제조된 반도체 기판 및 반도체 소자에 관한 것으로, 환원 또는 촉매 반응을 수행하여 금속 박막 또는 금속 질화박막을 형성할 수 있는 소정의 물질을 박막 형성 물질로 적용함으로써 저항이 낮은 박막을 효과적으로 제조할 뿐 아니라 카본 등 리간드에 기인되는 박막의 불순물을 감소하고 비저항, 결정성 등의 박막 물성을 개선시킬 수 있는 박막 형성 물질, 박막 형성 방법, 이로부터 제조된 반도체 기판 및 반도체 소자 등을 제공하는 효과가 있다.