PLASMA APPARATUS

• Main Authors: KIM NAM KYUN, KIM HYUK, JANG SUNG HO, JO YOUNG HYUN, KO JUNG MIN, NAM SANG KI, SUNG DOUG YONG, YOO SU YOUNG, CHUNG KYOUNG SOO, KIM KYUNG HYUN
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 28.08.2024
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS; ELECTRICITY

플라즈마 장치는 플라즈마 챔버, 제 1 전극, 에지 링 및 제 1 전자석 모듈을 포함할 수 있다. 상기 플라즈마 챔버 내에 플라즈마가 형성될 수 있다. 상기 제 1 전극은 상기 플라즈마 챔버의 저면에 배치되어 기판을 지지할 수 있다. 상기 에지 링은 상기 제 1 전극의 상부면에 배치된 상기 기판을 둘러쌀 수 있다. 상기 제 1 전자석 모듈은 상기 제 1 전극 내에 배치되어 자기장을 이용해서 상기 플라즈마의 밀도를 제어할 수 있다. 따라서, 기판 상의 막을 정밀하게 제어된 밀도를 갖는 플라즈마를 이용해서 정밀하게 처리할 수가 있다.