STABLE SOLUTIONS OF MONOALKYL TIN ALKOXIDES AND THEIR HYDROLYSIS AND CONDENSATION PRODUCTS

방사선 패턴가능 코팅을 위한 전구체 용액은 유기 용매 및 모노알킬 주석 트리알콕사이드로 형성되며, 여기서 용매의 수분 함량은 선택된 값의 10% 이내로 조정된다. 일반적으로 용매의 수분 함량은 수분을 첨가하여 조절하지만 수분 제거도 사용할 수 있다. 일부 실시양태에서, 용매의 조정된 수분 함량은 약 250 중량ppm 내지 약 10,000 중량ppm일 수 있다. 리간드의 적절한 선택으로, 조정된 전구체 용액은 약 42일 이상 동안, 일부 경우에는 8개월 이상 동안 안정적일 수 있다. Precursor solutions for radi...

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Main Authors ANDERSON JEREMY T, MCQUADE LAUREN B, CARDINEAU BRIAN J, MEYERS STEPHEN T, CLARK BENJAMIN L, SMIDDY DOMINICK, WILSON MOSES MARGARET, JIANG KAI
Format Patent
LanguageEnglish
Korean
Published 27.08.2024
Subjects
APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
CINEMATOGRAPHY
ELECTROGRAPHY
HOLOGRAPHY
MATERIALS THEREFOR
ORIGINALS THEREFOR
PHOTOGRAPHY
PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES
PHYSICS
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Summary:방사선 패턴가능 코팅을 위한 전구체 용액은 유기 용매 및 모노알킬 주석 트리알콕사이드로 형성되며, 여기서 용매의 수분 함량은 선택된 값의 10% 이내로 조정된다. 일반적으로 용매의 수분 함량은 수분을 첨가하여 조절하지만 수분 제거도 사용할 수 있다. 일부 실시양태에서, 용매의 조정된 수분 함량은 약 250 중량ppm 내지 약 10,000 중량ppm일 수 있다. 리간드의 적절한 선택으로, 조정된 전구체 용액은 약 42일 이상 동안, 일부 경우에는 8개월 이상 동안 안정적일 수 있다. Precursor solutions for radiation patternable coatings are formed with an organic solvent and monoalkyl tin trialkoxides in which the water content of the solvent is adjusted to be within 10 percent of a selected value. Generally, the water content of the solvent is adjusted through water addition, although water removal can also be used. In some embodiments, the adjusted water content of the solvent can be from about 250 ppm by weight to about 10,000 ppm by weight. With the appropriate selection of ligands, the adjusted precursor solutions can be stable for at least about 42 days, and in some cases at least 8 months.
Bibliography:Application Number: KR20247027818