타겟의 신속 광학 검사를 위하여 시스템에 구현된 광학 시스템

• Main Authors: HUISMAN SIMON REINALD, GOORDEN SEBASTIANUS ADRIANUS, ROUX STEPHEN
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 23.08.2024
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS

시스템은 광학 디바이스들, 반사 디바이스들, 가동 반사 디바이스 및 검출기를 포함한다. 광학 디바이스들은 제1 평면에 그리고 시스템의 축 주위에 배치되며 타겟으로부터의 산란 방사선을 받아들인다. 반사 디바이스들은 적어도 제2 평면에 그리고 축 주위에 배치된다. 반사 디바이스들의 각각은 광학 디바이스들 중 대응하는 하나의 광학 디바이스로부터의 산란 방사선을 받아들인다. 가동 반사 디바이스는 축을 따라 배치되며, 반사 디바이스들의 각각으로부터의 산란 방사선을 받아들인다. 검출기는 가동 반사 디바이스로부터의 산란 방사선을 받아들인다. A system includes optical devices, reflective devices, a movable reflective device, and a detector. The optical devices are disposed at a first plane and around a axis of the system and receive scattered radiation from targets. The reflective devices are disposed at at least a second plane and around the axis. Each of the reflective devices receives the scattered radiation from a corresponding one of the optical devices. The movable reflective device is disposed along the axis and receives the scattered radiation from each of the reflective devices. The detector receives the scattered radiation from the movable reflective device.