낮은 질소 함량을 갖는 비스 테레프탈레이트
본 발명은 주로 BHET 를 포함하고 10 중량ppm 이하의 질소 함량을 나타내는 조성물에 관한 것이며, 여기에서 질소 함량은 조성물을 테트라히드로푸란에 희석시켜 제조된 액체 형태의 샘플을 1050-1100 ℃ 의 온도에서 및 산소 및 헬륨으로 구성된 산화 혼합물의 존재하에서 산화적 연소 후, 35 ㎤/min 의 오존 스트림을 사용한 화학발광 방법에 따라서 및 톨루엔에 희석된 디페닐아민 표준을 사용하여 작성된 검량선을 이용하여 결정된다. The invention relates to a composition comprising mai...
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Format | Patent |
Language | Korean |
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19.08.2024
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Summary: | 본 발명은 주로 BHET 를 포함하고 10 중량ppm 이하의 질소 함량을 나타내는 조성물에 관한 것이며, 여기에서 질소 함량은 조성물을 테트라히드로푸란에 희석시켜 제조된 액체 형태의 샘플을 1050-1100 ℃ 의 온도에서 및 산소 및 헬륨으로 구성된 산화 혼합물의 존재하에서 산화적 연소 후, 35 ㎤/min 의 오존 스트림을 사용한 화학발광 방법에 따라서 및 톨루엔에 희석된 디페닐아민 표준을 사용하여 작성된 검량선을 이용하여 결정된다.
The invention relates to a composition comprising mainly BHET and having a nitrogen content of less than or equal to 10 ppm by weight, the nitrogen content being determined according to a chemiluminescence method, with an ozone flow at 35 cm3/min, after oxidative combustion of a sample in liquid form, prepared by dilution of the composition in tetrahydrofuran, at a temperature of 1050-1100°C and in the presence of an oxidising mixture composed of oxygen and helium, and using a calibration curve formed using a diphenylamine standard diluted in toluene. |
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Bibliography: | Application Number: KR20247019460 |