WAFER PROCESSING DATA ANALYSIS MODEL LEARNING AND EVALUATING METHOD AND SYSTEM FOR SEMICONDUCTOR PROCESS MANAGEMENT
반도체 공정 관리를 위한 웨이퍼 가공 데이터 분석 모델의 학습 및 평가 방법과 시스템이 개시된다. 일 실시예에 따른 웨이퍼 가공 데이터 분석 모델의 학습 및 평가 방법은, 웨이퍼 가공 데이터를 입력으로 상기 웨이퍼 가공 데이터 분석 모델을 지도 학습 가능한지 또는 비지도 학습 가능한지 여부를 판단하는 단계; 및 웨이퍼들이 웨이퍼 상태들을 나타내는 클러스터들에 각기 분류되는 것을 예측한 예측 분류 해를 상기 웨이퍼 가공 데이터 분석 모델을 기반으로 상기 판단 결과에 따른 학습 종류 별로 상이한 방식을 이용하여 생성 및 평가하는 단계를...
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Format | Patent |
Language | English Korean |
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19.08.2024
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Summary: | 반도체 공정 관리를 위한 웨이퍼 가공 데이터 분석 모델의 학습 및 평가 방법과 시스템이 개시된다. 일 실시예에 따른 웨이퍼 가공 데이터 분석 모델의 학습 및 평가 방법은, 웨이퍼 가공 데이터를 입력으로 상기 웨이퍼 가공 데이터 분석 모델을 지도 학습 가능한지 또는 비지도 학습 가능한지 여부를 판단하는 단계; 및 웨이퍼들이 웨이퍼 상태들을 나타내는 클러스터들에 각기 분류되는 것을 예측한 예측 분류 해를 상기 웨이퍼 가공 데이터 분석 모델을 기반으로 상기 판단 결과에 따른 학습 종류 별로 상이한 방식을 이용하여 생성 및 평가하는 단계를 포함할 수 있다. |
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Bibliography: | Application Number: KR20230017127 |