상이한 깊이들 및 형상들의 구조물들을 형성하기 위한 리소그래피 시스템 및 관련 방법들

• Main Authors: LAIDIG THOMAS L, TSAI CHI MING
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 09.08.2024
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS

복수의 복사 빔을 기판 상의 제1 층의 제1 영역에 지향시키는 단계를 포함하는 방법이 제공되며, 각각의 빔은 제1 영역 내의 복수의 부분 중 상이한 부분에 입사한다. 각각의 부분은 제1 크기의 면적을 갖고, 복수의 복사 빔은 제1 패턴에 기초하여 제1 영역에 지향되고, 제1 패턴은 복수의 온 셀 및 복수의 오프 셀을 포함하는 복수의 유닛 셀을 포함하고, 각각의 유닛 셀은 제1 크기보다 작은 면적을 갖고, 복수의 온 셀은 복수의 복사 빔 중의 복사 빔이 중앙에 포커싱되는 제1 영역 내의 위치들을 식별하고, 복수의 오프 셀은 복수의 복사 빔 중 어떤 복사 빔도 중앙에 포커싱되지 않는 제1 영역 내의 위치들을 식별한다. A method is provided including directing a plurality of beams of radiation at a first area of a first layer on a substrate, each beam incident upon a different portion of a plurality of portions within the first area. Each portion has an area of a first size, the plurality of beams of radiation are directed at the first area based on a first pattern, the first pattern comprises a plurality of unit cells that include a plurality of on cells and a plurality of off cells, each unit cell has an area smaller than the first size, the plurality of on cells identify locations within the first area at which a beam of radiation of the plurality of beams of radiation is centrally focused, and the plurality of off cells identify locations within the first area at which no beam of radiation of the plurality of beams of radiation is centrally focused.