디지털 리소그래피를 사용한 3D 포토레지스트 프로파일들의 생성

본원에서 설명된 실시예들은, 단일 노출 동작에서 3차원 프로파일을 형성하기 위한 리소그래피 프로세스의 시스템, 소프트웨어 애플리케이션, 및 방법을 제공한다. 리소그래피 시스템의 이미지 투사 시스템은 포토레지스트 층에 복수의 샷들을 제공할 것이다. 포토레지스트 층에 3차원 프로파일을 형성하기 위해, 노출 영역 내의 복수의 샷들의 국부 샷 밀도가 변화될 것이다. 국부 샷 밀도는, 이미지 투사 시스템에 의해 노출 영역의 각각의 서브-그리드에 제공되는 선량을 결정할 것이다. 선량은, 복수의 샷들이 포토레지스트 층에 투사될 때 포토레지스트...

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Main Authors TSAI CHI MING, LAIDIG THOMAS L
Format Patent
LanguageKorean
Published 06.08.2024
Subjects
APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
CINEMATOGRAPHY
ELECTROGRAPHY
HOLOGRAPHY
MATERIALS THEREFOR
OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
OPTICS
ORIGINALS THEREFOR
PHOTOGRAPHY
PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES
PHYSICS
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Summary:본원에서 설명된 실시예들은, 단일 노출 동작에서 3차원 프로파일을 형성하기 위한 리소그래피 프로세스의 시스템, 소프트웨어 애플리케이션, 및 방법을 제공한다. 리소그래피 시스템의 이미지 투사 시스템은 포토레지스트 층에 복수의 샷들을 제공할 것이다. 포토레지스트 층에 3차원 프로파일을 형성하기 위해, 노출 영역 내의 복수의 샷들의 국부 샷 밀도가 변화될 것이다. 국부 샷 밀도는, 이미지 투사 시스템에 의해 노출 영역의 각각의 서브-그리드에 제공되는 선량을 결정할 것이다. 선량은, 복수의 샷들이 포토레지스트 층에 투사될 때 포토레지스트 층의 두께를 결정할 것이다. Embodiments described herein provide for a system, a software application, and a method of a lithography process to form a three-dimensional profile in a single exposure operation. An image projections system of a lithography system will provide a plurality of shots to a photoresist layer. To form a three-dimensional profile in the photoresist layer, a local shot density of a plurality of shots within an exposure area will be varied. The local shot density will determine a dose provided by the image projection system at each sub-grid of an exposure area. The dose will determine the thickness of a photoresist layer when the plurality of shots are projected to the photoresist layer.
Bibliography:Application Number: KR20247023477