CLEANING APPARATUS AND CLEANING METHOD

• Main Author: KANAI TAKAHIRO
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 02.08.2024
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; CLEANING; CLEANING IN GENERAL; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; PERFORMING OPERATIONS; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL; SEMICONDUCTOR DEVICES; TRANSPORTING

본 발명의 과제는 기판의 세정 처리에 있어서의 청정도를 향상시킬 수 있는 세정 장치 및 세정 방법을 제공하는 것이다. 실시 형태의 세정 장치(1)는, 기판(W)의 외주에 접하여 기판(W)을 회전시키는 복수의 롤러(100)와, 롤러(100)를 회전시키는 회전 기구(110)와, 기판(W)에 대하여 기판 세정액(Lw)을 토출하는 기판 세정액 토출부(40)와, 기판 세정액(Lw)이 토출됨과 함께 회전하는 기판(W)의 적어도 한쪽의 면에 접촉하여, 기판(W)의 면을 세정하는 브러시를 구비하는 기판 세정부(20)와, 기판 세정액(Lw)에 의해 액막이 형성된 기판(W)을 회전시키고 있는 롤러(100)에, 롤러 세정액(Lr)을 공급하는 롤러 세정부(50)를 갖는다. The present invention provides a cleaning device and a cleaning method that can improve the cleanliness in the cleaning process of substrates. The cleaning device (1) of the embodiment comprises: a plurality of rollers (100) that come into contact with the outer periphery of the substrate (W) to rotate the substrate (W); a rotating mechanism (110) to rotate the rollers (100); a substrate cleaning liquid spraying unit (40) to spray a substrate cleaning liquid (Lw) onto the substrate (W); a substrate cleaning unit (20) that comprises a brush that contacts at least one surface of the rotating substrate (W) sprayed with substrate cleaning liquid (Lw) to clean the surface of the substrate (W); and a roller cleaning unit (50) that supplies roller cleaning liquid (Lr) to the rollers (100) to rotate the substrate (W) on which a liquid film is formed by the substrate cleaning liquid (Lw).