텍스처링된 유전체를 사용한 웨이퍼 대 베이스 플레이트 아크 방지

기판 처리 챔버들에서 사용하기 위한 정전 척들이 본원에 제공된다. 일부 실시예들에서, 기판 처리 챔버에서 사용하기 위한 정전 척은: 전극이 배치된 유전체 플레이트를 포함하고, 유전체 플레이트는 중앙 부분 및 주변 부분을 더 포함하고, 주변 부분은: 적어도 하나의 돌기를 갖는 외측 측벽; 유전체 플레이트의 중앙 부분의 공극률보다 큰 공극률; 또는 중앙 부분의 물질과 상이한 물질로 만들어진 하나 이상의 코팅 중 적어도 하나를 포함한다. Electrostatic chucks for use in substrate processing cha...

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Main Authors CHADHA ARVINDER S, RAMASWAMY KARTIK
Format Patent
LanguageKorean
Published 25.07.2024
Subjects
BASIC ELECTRIC ELEMENTS
ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
ELECTRICITY
SEMICONDUCTOR DEVICES
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Summary:기판 처리 챔버들에서 사용하기 위한 정전 척들이 본원에 제공된다. 일부 실시예들에서, 기판 처리 챔버에서 사용하기 위한 정전 척은: 전극이 배치된 유전체 플레이트를 포함하고, 유전체 플레이트는 중앙 부분 및 주변 부분을 더 포함하고, 주변 부분은: 적어도 하나의 돌기를 갖는 외측 측벽; 유전체 플레이트의 중앙 부분의 공극률보다 큰 공극률; 또는 중앙 부분의 물질과 상이한 물질로 만들어진 하나 이상의 코팅 중 적어도 하나를 포함한다. Electrostatic chucks for use in substrate processing chambers are provided herein. In some embodiments, an electrostatic chuck for use in a substrate processing chamber includes: a dielectric plate having an electrode disposed therein, the dielectric plate further including a central portion and a peripheral portion, wherein the peripheral portion comprises at least one of: an outer sidewall having at least one asperity; a porosity greater than a porosity of the central portion of the dielectric plate; or one or more coatings made of a material different than a material of the central portion.
Bibliography:Application Number: KR20247022900