포토마스크에 대한 작업을 교정하기 위한 방법 및 장치

• Main Author: BUDACH MICHAEL
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 09.07.2024
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS

본 발명은 마스크에 대한 작업(operation)을 교정하기 위한 방법 및 장치에 관한 것이다. 입자 빔을 사용하여 리소그래피용 오브젝트 상에 보정 마크들을 생성하기 위한, 특히 작업을 교정하기 위한 방법은, (a.) 보정 마크들의 제 1 그룹을 생성하는 단계; (b.) 보정 마크들의 제 2 그룹을 생성하는 단계를 포함하며, (c.) 상기 제 1 그룹 내 및 상기 제 2 그룹 내에서의 상기 보정 마크들의 이격 거리(separation)가 상기 제 1 그룹으로부터의 보정 마크들과 상기 제 2 그룹으로부터의 보정 마크들 사이의 이격 거...