SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND CONTROL METHOD OF THE SAME

• Main Authors: KWON SOON KAB, LEE HYO JU, JANG JOON HWAN
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 08.07.2024
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; SEMICONDUCTOR DEVICES

본 발명의 기술적 사상은, 기판을 지지하도록 구성된 지지부재, 일 측에 상기 기판이 출입하도록 구성된 출입구, 및 상기 기판을 수용하도록 구성된 하우징을 포함하는 기판 처리 유닛; 및 상기 기판 처리 유닛으로 하강 기류를 형성하여 공기를 공급하도록 구성된 제1 송풍 부재를 포함하고, 상기 제1 송풍 부재는, 상부 및 하부가 개방된 팬 하우징; 상기 팬 하우징 내부에 배치되어 상기 팬 하우징의 개방된 상부로부터 하부로 공기를 유동시키도록 구성된 팬; 상기 팬을 사이에 두고 제1 수평 방향으로 이격되어 배치되고 열을 공급하도록 구성된 한 쌍의 제1 히터; 및 상기 팬을 사이에 두고 상기 제1 수평 방향과 수직인 제2 수평 방향으로 이격되어 배치되고 열을 공급하도록 구성된 한 쌍의 제2 히터를 포함하고, 상기 제1 히터와 상기 제2 히터의 열 공급을 제어하도록 구성된 제어부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치를 제공한다. Provided is a substrate processing apparatus including a substrate processing unit including a support member configured to support a substrate, an entrance on one side of the substrate processing unit configured to allow the substrate to enter and exit the substrate processing unit, and a housing configured to accommodate the substrate, and a first blowing member configured to supply air, wherein the first blowing member includes a fan housing with an open top and an open bottom, a fan arranged inside the fan housing and configured to flow air from the open top to the open bottom of the fan housing, a pair of first heaters arranged spaced apart from each other in a first horizontal direction with the fan therebetween and configured to supply heat.