PROCESSOR SYSTEM CORRECTION METHOD AND CORRECTION PROGRAM

• Main Authors: OSAKI MAYUKA, TSUBOYA SHUNKI, KAWANO HAJIME
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 05.07.2024
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS; ELECTRICITY

본 발명은, 멀티 빔형 하전 입자 현미경 장치에 관한 크로스토크의 영향을 저감할 수 있는 기술을 제공한다. 멀티 빔형의 하전 입자 현미경 장치(100)는, 복수의 빔을 시료(9)면 상의 복수의 영역에 조사하는 조사계(104)와, 시료(9)면으로부터의 방출 전자를 검출하는 검출계(125)(보정용 검출기(132), 촬상용 검출기(131))와, 멀티 검출기(123)의 제1 검출기의 제1 신호에 기초하여 제1 영역 내의 제1 화소의 제1 휘도를 생성하고, 제2 검출기의 제2 신호에 기초하여 상기 제2 영역 내의 제2 화소의 제2 휘도를 생성하는 컨트롤러(102)를 구비한다. 하전 입자 현미경 장치(100)와 통신 가능한 프로세서 시스템(103)의 프로세서는, 하전 입자 현미경 장치(100)로부터 취득한 제1 휘도와 보정용 검출기(132)의 출력에 기초하여, 제1 신호에 대한 제2 방출 전자로부터의 제1 크로스토크양을 특정하고, 제1 크로스토크양에 기초하여 제1 휘도를 보정한다. A multi-beam charged-particle microscope apparatus 100 includes an irradiation system 104 that irradiates a plurality of regions on a surface of a sample 9 with a plurality of beams, a detection system 125 (correction detector 132 and imaging detector 131) that detects emitted electrons from the surface of the sample 9, and a controller 102 that generates a first brightness of a first pixel in a first region based on a first signal of a first detector of a multi-detector 123 and generates a second brightness of a second pixel in a second region based on a second signal of a second detector. A processor of a processor system 103 that can communicate with the charged-particle microscope apparatus 100 specifies a first crosstalk amount from a second emitted electron to the first signal based on the first brightness obtained from the charged-particle microscope apparatus 100 and an output of the correction detector 132 and corrects the first brightness based on the first crosstalk amount.