IMPRINT DEVICE IMPRINT METHOD AND ARTICLE MANUFACTURING METHOD

몰드를 사용해서 기판의 샷 영역 상에 패턴을 형성하는 임프린트 장치가 제공된다. 임프린트 장치는 몰드의 패턴 영역에 적어도 부분적으로 광을 조사하도록 구성되는 조사부 및 제어부를 포함한다. 제어부는, 패턴 영역의 요철 정보에 기초하여, 미리결정된 값을 초과하는 깊이를 갖는 1개 이상의 오목부를 포함하는 제1 영역과, 제1 영역에 인접하고, 미리결정된 값을 초과하는 깊이를 갖는 오목부를 포함하지 않는 제2 영역 사이의 경계를 포함하는 패턴 영역의 부분 영역을 결정하고, 조사부에 의한 부분 영역에의 광 조사량을 부분 영역 이외의 영역보...

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Main Author HAMAMOTO RYOSUKE
Format Patent
LanguageEnglish
Korean
Published 01.07.2024
Subjects
APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
CINEMATOGRAPHY
ELECTROGRAPHY
HOLOGRAPHY
MATERIALS THEREFOR
ORIGINALS THEREFOR
PHOTOGRAPHY
PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES
PHYSICS
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Summary:몰드를 사용해서 기판의 샷 영역 상에 패턴을 형성하는 임프린트 장치가 제공된다. 임프린트 장치는 몰드의 패턴 영역에 적어도 부분적으로 광을 조사하도록 구성되는 조사부 및 제어부를 포함한다. 제어부는, 패턴 영역의 요철 정보에 기초하여, 미리결정된 값을 초과하는 깊이를 갖는 1개 이상의 오목부를 포함하는 제1 영역과, 제1 영역에 인접하고, 미리결정된 값을 초과하는 깊이를 갖는 오목부를 포함하지 않는 제2 영역 사이의 경계를 포함하는 패턴 영역의 부분 영역을 결정하고, 조사부에 의한 부분 영역에의 광 조사량을 부분 영역 이외의 영역보다 크게 설정하도록 구성된다. An imprint device that forms a pattern on a shot region of a substrate by using a mold is provided. The imprint device includes an irradiator configured to at least partially irradiate a pattern region of the mold with light, and a controller. The controller is configured to determine a partial region of the pattern region including a boundary between a first region including one or more recessed portions having a depth exceeding a predetermined value and a second region that is adjacent to the first region and does not include a recessed portion having a depth exceeding the predetermined value, based on unevenness information of the pattern region, and set a light irradiation amount to the partial region by the irradiator to be larger than a region other than the partial region.
Bibliography:Application Number: KR20230187883