정전 척 히터 및 성막 장치

• Main Author: HARA TOMOHIRO
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 25.06.2024
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; CHEMISTRY; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; COATING METALLIC MATERIAL; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL; METALLURGY; SEMICONDUCTOR DEVICES; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION

리프트 핀 구멍의 주변의 웨이퍼 변형을 균일화하는 것이 가능한, 정전 척 히터가 제공된다. 이 정전 척 히터는, 성막 장치에 사용되는 것이다. 정전 척 히터는, 성막되어야 할 웨이퍼가 적재되기 위한 제1 면과, 제1 면과 대향하는 제2 면을 갖고, 또한 ESC 전극 및 히터 전극을 내장한 세라믹 플레이트와, 세라믹 플레이트의 제2 면에 설치되고, 또한 ESC 전극에 접속된 ESC 로드 및 히터 전극에 접속된 히터 로드를 수용하기 위한 내부 공간을 구비한 세라믹 샤프트와, 세라믹 플레이트의 제1 면으로부터 제2 면으로 관통하는 복수개의 리프트 핀 구멍과, 세라믹 플레이트의 제1 면에, 서로 등간격으로, 또한 리프트 핀 구멍의 각각의 중심축에 대하여 회전 대칭이 되도록 배치되는 복수개의 돌기를 구비한다. There is provided an electrostatic chuck heater including: a ceramic plate having a first surface for bearing a wafer on which a film is to be deposited, and a second surface opposite the first surface, and including ESC electrodes and a heater electrode which are built therein; a ceramic shaft which is attached to the second surface of the ceramic plate and which comprises an internal space for accommodating an ESC rod connected to the ESC electrodes and a heater rod connected to the heater electrode; a plurality of lift pin holes penetrating the ceramic plate from the first surface to the second surface; and a plurality of protrusions arranged on the first surface of the ceramic plate with equal spacing from each other and with rotational symmetry about a central axis of each of the lift pin holes.