Cluster compound or salt thereof and photoresist composition comprising the same

본 발명은 클러스터 화합물 또는 이의 염 및 이를 포함하는 포토레지스트 조성물에 관한 것으로, 결합과 해리가 용이한 표면 분자를 도입하여 클러스터 화합물의 화학적 안정성을 확보하면서도 현저히 향상된 EUV 민감도를 가져, 우수한 민감도로 포토레지스트 패턴을 형성할 수 있는 클러스터 화합물 또는 이의 염을 제공한다....

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Main Authors JEONG HYUNDAM, KIM KI JEONG, KIM MINYEOB, KEE WONCHUL, BANG JIYOUNG
Format Patent
LanguageEnglish
Korean
Published 25.06.2024
Subjects
ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAININGELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN,SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
BASIC ELECTRIC ELEMENTS
CHEMISTRY
CINEMATOGRAPHY
ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
ELECTRICITY
ELECTROGRAPHY
HOLOGRAPHY
MATERIALS THEREFOR
METALLURGY
ORGANIC CHEMISTRY
ORIGINALS THEREFOR
PHOTOGRAPHY
PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES
PHYSICS
SEMICONDUCTOR DEVICES
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Summary:본 발명은 클러스터 화합물 또는 이의 염 및 이를 포함하는 포토레지스트 조성물에 관한 것으로, 결합과 해리가 용이한 표면 분자를 도입하여 클러스터 화합물의 화학적 안정성을 확보하면서도 현저히 향상된 EUV 민감도를 가져, 우수한 민감도로 포토레지스트 패턴을 형성할 수 있는 클러스터 화합물 또는 이의 염을 제공한다.
Bibliography:Application Number: KR20230181703