METHOD FOR ALIGNING SUBSTRATE

• Main Authors: KANG JAE GYU, KIM CHAN YOUNG
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 25.06.2024
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; CHEMISTRY; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; COATING METALLIC MATERIAL; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL; METALLURGY; SEMICONDUCTOR DEVICES; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION

본 발명의 일 측면에 따르면, 전기적으로 초점을 조절하는 액체 렌즈(liquid lens)를 구비하는 비젼부를 이용하여 기판과 마스크를 얼라인하는 방법으로서, 마스크 정렬키가 형성된 상기 마스크에 대향하도록 기판 정렬키가 형성된 상기 기판을 로딩하는 단계와; 상기 액체 렌즈가 상기 마스크의 상기 마스크 정렬키를 포커싱하고 상기 마스크 정렬키를 촬영하는 단계와; 상기 액체 렌즈가 상기 기판의 상기 기판 정렬키를 포커싱하고 상기 기판 정렬키를 촬영한 단계와; 상기 마스크 정렬키 이미지와 상기 기판 정렬키 이미지 각각의 초점 거리에 따른 상기 마스크 정렬키의 위치좌표와 상기 기판 정렬키의 위치좌표를 산출하는 단계를 포함하는, 기판 얼라인 방법이 제공된다.