적외광 통과 필터용 감광성 착색 조성물, 적외광 통과 필터, 적외광 통과 필터용 감광성 착색 조성물의 제조 방법, 및 적외광 통과 필터의 제조 방법

• Main Authors: HIROTA TETSUYA, MAEDA TADATOSHI
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 19.06.2024
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS; OPTICS; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS

적외광 통과 필터용 감광성 착색 조성물은, 착색제, 중합성 화합물, 광중합 개시제, 및 중합 금지제를 포함한다. 중합성 화합물은, 2개 이상의 관능기를 갖는 제1 (메트)아크릴레이트를 포함하고, 2개 이상의 관능기 중 적어도 하나는 아미노기이다. 광중합 개시제의 질량에 대한 제1 (메트)아크릴레이트의 질량의 백분율이, 50% 이상 500% 이하이다. 광중합 개시제의 질량에 대한 중합 금지제의 질량의 백분율이, 3% 이상 30% 이하이다. A photosensitive coloring composition for an infrared pass filter contains a colorant, a polymerizable compound, a photopolymerization initiator, and a polymerization inhibitor. The polymerizable compound contains a first (meth)acrylate with two or more functional groups, at least one of the two or more functional groups being an amino group. A percentage of a mass of the first (meth)acrylate relative to a mass of the photopolymerization initiator is 50% or greater and 500% or less. A percentage of a mass of the polymerization inhibitor relative to a mass of the photopolymerization initiator is 3% or greater and 30% or less.