SUBSTRATE CLEANING EQUIPMENT

기판 세정 장비가 제공된다. 기판 세정 장비는 회전 가능하고, 기판을 지지하도록 구성된 기판 홀더, 및 기판의 표면 위에 세정액을 분사하는 세정액 공급부를 포함하고, 세정액 공급부는, 기판의 표면 상에서, 제1 스윕 라인을 따라 회전하는 노즐 암, 노즐 암에 일측 단부가 고정되어, 제2 스윕 라인을 따라 스윙하는 노즐 지지부, 및 노즐 지지부 내에 위치하는 공급 노즐을 포함한다....

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Main Authors CHO WONKEUN, KWON DONGHOON
Format Patent
LanguageEnglish
Korean
Published 13.06.2024
Subjects
APPLYING LIQUIDS OR OTHER FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
ATOMISING APPARATUS
BASIC ELECTRIC ELEMENTS
ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
ELECTRICITY
NOZZLES
PERFORMING OPERATIONS
SEMICONDUCTOR DEVICES
SPRAYING APPARATUS
SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL
TRANSPORTING
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Summary:기판 세정 장비가 제공된다. 기판 세정 장비는 회전 가능하고, 기판을 지지하도록 구성된 기판 홀더, 및 기판의 표면 위에 세정액을 분사하는 세정액 공급부를 포함하고, 세정액 공급부는, 기판의 표면 상에서, 제1 스윕 라인을 따라 회전하는 노즐 암, 노즐 암에 일측 단부가 고정되어, 제2 스윕 라인을 따라 스윙하는 노즐 지지부, 및 노즐 지지부 내에 위치하는 공급 노즐을 포함한다.
Bibliography:Application Number: KR20220168667