SUBSTRATE PROCESSING APPRATUS AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD

• Main Authors: PARK EUN WOO, LIM JAE HYUN, CHOI BYOUNG DOO, KIM DAE SUNG, LEE WOO RAM, LEE JAE HO
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 11.06.2024
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; SEMICONDUCTOR DEVICES

본 발명은 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법에 관한 것으로, 본 발명의 일 실시예에 의한 기판 처리 장치는, 처리 공간을 가지는 처리 용기; 상기 처리 공간에 제공되며, 기판을 지지하기 위한 기판 지지 유닛; 상기 기판 저면을 향해 세정액을 공급하기 위한 액 공급 유닛; 및 상기 기판 저면을 향해 가스를 공급하는 가스 공급 유닛을 포함하고, 상기 가스 공급 유닛은, 상기 기판의 저면을 향하는 제1 방향으로 상기 가스를 토출시키기 위한 제1 공급관과; 상기 기판의 저면을 향하는 제2 방향으로 상기 가스를 토출시키기 위한 제2 공급관을 포함할 수 있다.