콤팩트한 낮은 각도 이온 빔 추출 조립체 및 처리 장치

추출 조립체는 플라즈마 챔버의 측을 따른 배치를 위한 추출 플레이트를 포함할 수 있고, 추출 플레이트는 추출 애퍼쳐를 갖고, 추출 애퍼쳐는 제1 방향을 따라 세장형이고, 제1 방향에 수직인 제2 방향을 따라 연장되는 애퍼쳐 높이를 갖는다. 추출 플레이트는, 제1 평면에 놓이는, 추출 애퍼쳐를 따른 내측 표면을 한정한다. 빔 차단기는 추출 애퍼쳐 위에 배치되고, 제1 평면과 상이한 제2 평면에 배치된 외측 표면을 갖는다. 이로써, 빔 차단기는, 제1 에지를 따라 제1 추출 슬릿을, 그리고 제2 에지를 따라 제2 추출 슬릿을 한정하기...

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Main Authors ROCKWELL TYLER, BILOIU COSTEL, BASAME SOLOMON BELANGEDI, WALLACE JAY R, ANGLIN KEVIN R
Format Patent
LanguageKorean
Published 27.05.2024
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Summary:추출 조립체는 플라즈마 챔버의 측을 따른 배치를 위한 추출 플레이트를 포함할 수 있고, 추출 플레이트는 추출 애퍼쳐를 갖고, 추출 애퍼쳐는 제1 방향을 따라 세장형이고, 제1 방향에 수직인 제2 방향을 따라 연장되는 애퍼쳐 높이를 갖는다. 추출 플레이트는, 제1 평면에 놓이는, 추출 애퍼쳐를 따른 내측 표면을 한정한다. 빔 차단기는 추출 애퍼쳐 위에 배치되고, 제1 평면과 상이한 제2 평면에 배치된 외측 표면을 갖는다. 이로써, 빔 차단기는, 제1 에지를 따라 제1 추출 슬릿을, 그리고 제2 에지를 따라 제2 추출 슬릿을 한정하기 위해, 제1 중첩 거리만큼 추출 애퍼쳐의 제1 에지를 따라 추출 플레이트와 중첩되고, 제2 중첩 거리만큼 추출 애퍼쳐의 제2 에지를 따라 추출 플레이트와 중첩된다. An extraction assembly may include an extraction plate for placement along a side of a plasma chamber, and having an extraction aperture, elongated along a first direction, and having an aperture height, extending along a second direction, perpendicular to the first direction. The extraction plate defines an inner surface along the extraction aperture, lying in a first plane. A beam blocker is disposed over the extraction aperture, and has an outer surface, disposed in a second plane, different than the first plane. As such, the beam blocker overlaps with the extraction plate along a first edge of the extraction aperture by a first overlap distance, and overlaps with the extraction plate along a second edge of the extraction aperture by a second overlap distance, so as to define a first extraction slit, along the first edge, and a second extraction slit along the second edge.
Bibliography:Application Number: KR20247015625