OLED OLED metal mask and manufacturing method of the same

• Main Author: KIM, JIN WOO
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 21.05.2024
• Subjects: APPARATUS THEREFOR; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; CHEMISTRY; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; COATING METALLIC MATERIAL; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; ELECTRICITY; ELECTROFORMING; ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL; METALLURGY; PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTIONOF COATINGS; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION

본 발명은 전주도금법을 이용한 OLED 화소 형성에 사용되는 FMM의 제조에 관한 것이다. 본 파인 메털 마스크(Fine Metal Mask)를 제조하는 방법에 있어서, (a) 캐리어 글래스를 준비하고 상기 캐리어 글래스 상에 박리층을 증착하는 단계와, (b) 전주 도금을 위한 전극 금속(Electrode Metal)을 증착하여 전극층을 형성하는 단계와, (c) 상기 전극층 상에 감광(Photoresist)을 도포하는 단계와, (d) 상기 감광막을 제1 폭의 노광영역 패턴(W1)의 폭을 갖는 제1 마스크에 의해 제1회 노광하는 단계와, (e) 상기 상기 제1 폭보다 좁은 제2 폭의 노광영역 패턴(W2)의 폭을 갖는 제2 마스크에 의해 제2회 노광하는 단계와, (f) 상기 폭보다 좁은 폭의 노광영역 패턴(Wn)의 폭을 갖는 제N 마스크에 의해 제N회 노광하는 단계와, (g) 상기 감광막을 현상하여 패턴 측벽이 제어된 형상을 갖는 감광 패턴을 형성하는 단계와, (h) 상기 패터닝된 감광막에 전주도금 (Electroplating)하여 전주도금층을 형성하는 단계와, (i) 상기 감광막을 제거하여 금속 패턴을 형성하는 단계와, (j) 상기 전극층에 상기 금속 패턴과 대응되는 패턴을 형성하여 마스크 패턴을 형성하는 단계와, (k) 패터닝된 상기 전주도금층과 전극층의 강성을 높이기 위해 열처리하는 단계와, (l) 상기 전주도금층과 전극층에 형성된 마스크 패턴을 검사하는 단계와, (m) 상기 전주도금층과 전극층을 상기 캐리어 글래스로부터 분리하는 단계를 포함하는 전주도금법을 이용한 파인 메털 마스크 제조방법에 관한 것이다.