OES OES SENSOR MODULE WITH LIGHT RECEIVING PART DEPOSITON AVOIDANCE FUCNTION FOR PLASMA PROCESS MONITORING AND PLASMA PROCESS MONITORING APPARATUS WITH THE SAME

본 발명의 일 실시예는 발명은 플라즈마 증착을 수행하는 플라즈마 공정 중 플라즈마에 대한 실시간 및 장시간 모니터링을 수행할 수 있도록 하고, 플라즈마 공정 모니터링 장치의 수광부에 플라즈마 물질이 증착되는 것을 회피할 수 있도록, 광섬유(1151)를 고정하여 플라즈마 광을 수광하여 전송하는 OES 센서(110); 및 상기 OES 센서(110)의 OES 수광부(115) 측에 장착되어 플라즈마 물질 이동을 방해하는 종횡비를 가지는 플라즈마 경로를 형성함으로써 상기 OES 수광부(115)에 플라즈마가 증착되는 것을 방지하는 플라즈마 증...

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Main Authors YANG CHAN WOO, LEE HO NYUN
Format Patent
LanguageEnglish
Korean
Published 21.05.2024
Subjects
BASIC ELECTRIC ELEMENTS
COLORIMETRY
ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
ELECTRICITY
MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT,POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRA-RED,VISIBLE OR ULTRA-VIOLET LIGHT
MEASURING
PHYSICS
RADIATION PYROMETRY
TESTING
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Summary:본 발명의 일 실시예는 발명은 플라즈마 증착을 수행하는 플라즈마 공정 중 플라즈마에 대한 실시간 및 장시간 모니터링을 수행할 수 있도록 하고, 플라즈마 공정 모니터링 장치의 수광부에 플라즈마 물질이 증착되는 것을 회피할 수 있도록, 광섬유(1151)를 고정하여 플라즈마 광을 수광하여 전송하는 OES 센서(110); 및 상기 OES 센서(110)의 OES 수광부(115) 측에 장착되어 플라즈마 물질 이동을 방해하는 종횡비를 가지는 플라즈마 경로를 형성함으로써 상기 OES 수광부(115)에 플라즈마가 증착되는 것을 방지하는 플라즈마 증착 방지부(120)를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 수광부 증착 회피 기능을 가지는 플라즈마 공정 모니터링용 OES 센서 모듈을 제공한다.
Bibliography:Application Number: KR20220151527