APPARATUS FOR PROCESSING SUBSTRATE

• Main Authors: LEE JUNG SOO, KIM SUNG HO, KIM HYE KYOUNG
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 09.05.2024
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; SEMICONDUCTOR DEVICES

기판 처리 장치는 원래 크기의 기판을 적어도 두 장으로 분리시킨 분판 상에 코팅시킨 약액을 건조 처리시키기 위한 것으로써, 건조 챔버 및 건조량 보상부를 포함하도록 이루어질 수 있는데, 상기 건조 챔버는 상기 적어도 두 장의 분판에 코팅시킨 약액을 건조시키도록 구비되고, 상기 적어도 두 장의 분판 중 상기 약액을 먼저 코팅시킴에 의해 먼저 이송받는 분판과 상기 약액을 나중에 코팅시킴에 의해 나중에 이송받는 분판을 나란하게 배치시킬 수 있는 크기를 갖도록 이루어질 수 있고, 상기 건조량 보상부는 상기 약액에 대한 건조 처리시 상기 건...