APPARATUS FOR PROCESSING SUBSTRATE

• Main Authors: LEE JUNG SOO, KIM SUNG HO, KIM HYE KYOUNG
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 09.05.2024
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; SEMICONDUCTOR DEVICES

기판 처리 장치는 원래 크기의 기판을 적어도 두 장으로 분리시킨 분판 상에 코팅시킨 약액을 건조 처리시키기 위한 것으로써, 건조 챔버 및 건조량 보상부를 포함하도록 이루어질 수 있는데, 상기 건조 챔버는 상기 적어도 두 장의 분판에 코팅시킨 약액을 건조시키도록 구비되고, 상기 적어도 두 장의 분판 중 상기 약액을 먼저 코팅시킴에 의해 먼저 이송받는 분판과 상기 약액을 나중에 코팅시킴에 의해 나중에 이송받는 분판을 나란하게 배치시킬 수 있는 크기를 갖도록 이루어질 수 있고, 상기 건조량 보상부는 상기 약액에 대한 건조 처리시 상기 건조 챔버로 이송되어 대기하는 시간 차이로 인하여 발생하는 상기 먼저 이송받는 분판에 코팅시킨 약액과 상기 나중에 이송받는 분판에 코팅시킨 약액에서의 건조량 차이를 보상하도록 구비될 수 있다. An apparatus for processing a substrate may include a drying chamber configured to dry at least two divided substrates from an original substrate, the drying chamber may have a drying space where the at least two divided substrates disposed therein. The apparatus for processing a substrate may include a dryness compensation part configured to compensate a difference of drynesses of chemical liquids coated on the at least two divided substrates such that the chemical liquids coated on the at least two divided substrates has a substantially same dryness.