기판들의 열 프로세싱을 보정하기 위한 시스템들, 방법들 및 장치
본 개시내용의 양상들은 기판들의 열 프로세싱을 보정하기 위한 시스템들, 방법들 및 장치에 관한 것이다. 일 양상에서, 복수의 보정 흡수 팩터들을 갖는 보정 흡수 팩터 곡선이 생성된다. Aspects of the present disclosure relation to systems, methods, and apparatus for correcting thermal processing of substrates. In one aspect, a corrective absorption factor curve having a plurality...
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Format | Patent |
Language | Korean |
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30.04.2024
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Summary: | 본 개시내용의 양상들은 기판들의 열 프로세싱을 보정하기 위한 시스템들, 방법들 및 장치에 관한 것이다. 일 양상에서, 복수의 보정 흡수 팩터들을 갖는 보정 흡수 팩터 곡선이 생성된다.
Aspects of the present disclosure relation to systems, methods, and apparatus for correcting thermal processing of substrates. In one aspect, a corrective absorption factor curve having a plurality of corrective absorption factors is generated. |
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Bibliography: | Application Number: KR20247010388 |