Powder trap device for etching process

• Main Authors: LEE HUN HO, SONG KI SUNG
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 29.04.2024
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; PERFORMING OPERATIONS; PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL; SEMICONDUCTOR DEVICES; SEPARATION; TRANSPORTING

에칭 공정용 파우더 트랩 장치가 개시된다. 상기 에칭 공정용 파우더 트랩 장치는 측면에 제2 홀이 형성되고, 바닥면에 제1 홀이 형성되는 하우징; 상기 하우징 내부에 배치되고 공정 가스가 지나가는 경로를 형성하는 코일 구조물; 및 상기 하우징 내부에 배치되며 상기 공정 가스가 지나가는 경로 상에 배치되고, 상기 공정 가스에 포함된 파우더를 포집하도록 구성되는 필터;를 포함하고, 상기 코일 구조물은 상기 바닥면의 상기 제1 홀이 형성된 영역을 둘러싸며 제1 개구가 형성되는 제1 내측벽, 상기 제1 내측벽과 상기 하우징의 측면 사이에 형성되고 상기 제1 내측벽을 둘러싸며 제2 개구가 형성되는 제2 내측벽, 및 상기 제2 내측벽과 상기 하우징의 상기 측면 사이에 형성되고 상기 제2 내측벽을 둘러싸며 제3 개구가 형성되는 제3 내측벽을 포함하고, 상기 공정 가스는 시계 방향 또는 반시계 방향 중 어느 하나의 방향으로 중심축을 적어도 1회 회전하는 경로를 따라 유동하도록 구성될 수 있다.