OPTICAL APPARATUS AND WAFER PROCESSING SYSTEM INCLUDING SAME

광학 장치 및 이를 포함하는 웨이퍼 처리 시스템이 제공된다. 광학 장치는 레이저 빔을 제공받고, 레이저 빔을 선형 편광의 제1 상태의 제1 빔 및 선형 편광의 제2 상태의 제2 빔으로 분리하는 빔 분리부, 및 제2 빔의 펄스가 제1 빔의 펄스와 지연 시간을 갖도록, 제2 빔을 지연시키는 빔 지연부를 포함한다....

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Main Authors JUNG SUNG WOOK, LEE SANG MIN, BAE SANG WOO
Format Patent
LanguageEnglish
Korean
Published 18.04.2024
Subjects
BASIC ELECTRIC ELEMENTS
ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
ELECTRICITY
OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
OPTICS
PHYSICS
SEMICONDUCTOR DEVICES
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Summary:광학 장치 및 이를 포함하는 웨이퍼 처리 시스템이 제공된다. 광학 장치는 레이저 빔을 제공받고, 레이저 빔을 선형 편광의 제1 상태의 제1 빔 및 선형 편광의 제2 상태의 제2 빔으로 분리하는 빔 분리부, 및 제2 빔의 펄스가 제1 빔의 펄스와 지연 시간을 갖도록, 제2 빔을 지연시키는 빔 지연부를 포함한다.
Bibliography:Application Number: KR20230029150