물리지식기반 압축 감지를 이용한 기판 근처의 컨디션들의 가상 측정

방법은 제조 챔버 내의 기판에 대해 수행되는 프로세스 동안 제조 챔버 내에서의 속성 값들의 서브세트를 측정하는 단계를 포함한다. 방법은 측정치들이 취해지는 로케이션들이 아닌 로케이션들에서 제조 챔버에서의 속성 값들을 결정하는 단계를 더 포함한다. 방법은 결정된 속성들에 기초하여 시정 조치를 수행하는 단계를 더 포함한다. A method includes measuring a subset of property values within a manufacturing chamber during a process performed on a s...

Full description

Saved in:
Bibliographic Details
Main Authors RAO PREETHAM PRAHALLADA, KOTHNUR PRASHANTH
Format Patent
LanguageKorean
Published 16.04.2024
Subjects
ALARM SYSTEMS
BASIC ELECTRIC ELEMENTS
CALCULATING
COMPUTER SYSTEMS BASED ON SPECIFIC COMPUTATIONAL MODELS
COMPUTING
COUNTING
ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
ELECTRICITY
ORDER TELEGRAPHS
PHYSICS
SEMICONDUCTOR DEVICES
SIGNALLING
SIGNALLING OR CALLING SYSTEMS
Online AccessGet full text

Cover

More Information
Summary:방법은 제조 챔버 내의 기판에 대해 수행되는 프로세스 동안 제조 챔버 내에서의 속성 값들의 서브세트를 측정하는 단계를 포함한다. 방법은 측정치들이 취해지는 로케이션들이 아닌 로케이션들에서 제조 챔버에서의 속성 값들을 결정하는 단계를 더 포함한다. 방법은 결정된 속성들에 기초하여 시정 조치를 수행하는 단계를 더 포함한다. A method includes measuring a subset of property values within a manufacturing chamber during a process performed on a substrate within the manufacturing chamber. The method further includes determining property values in the manufacturing chamber at locations removed from the locations the measurements are taken. The method further includes performing a corrective action based on the determined properties.
Bibliography:Application Number: KR20247002742