연속적 체인형 에너지 이온 주입 방법 및 장치

• Main Authors: JEN CAUSON, BINTZ WILLIAM, DELUCA JAMES
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 03.04.2024
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; CHEMISTRY; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; COATING METALLIC MATERIAL; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS; ELECTRICITY; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL; METALLURGY; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION

빔 앞을 순차적으로 통과하면서 공작물에 대한 이온 빔 에너지를 선택적으로 가변시키는 이온 주입 시스템 및 방법. 상기 이온 주입 시스템은 상기 이온 빔을 생성하는 이온 소스와 가속/감속 스테이지에 공급되는 전기적 바이어스에 기초하여 상기 이온 빔의 상기 에너지를 가변시키는 가속/감속 스테이지를 구비한다. 공작물 지지부는 상기 가속/감속 스테이지의 바로 하류에 구비되어 선택적으로 가변된 에너지의 이온 빔을 통해 공작물을 지지하며, 상기 빔의 에너지 가변 동안 상기 공작물의 온도를 제어하도록 열적으로 제어될 수 있다. 상기 공작물이 상기 빔 앞에 위치되는 동안 에너지가 가변될 수 있으며, 제어기는 상기 전기 바이어스를 제어하여 상기 이온 빔의 에너지 변화를 제어할 수 있으며, 상기 공작물 지지부 상에 상기 공작물을 한 번에 위치시키는 과정에서 복수의 공정 레시피를 얻을 수 있다. Ion implantation systems and methods implant varying energies of an ion beam across a workpiece in a serial single-workpiece end station, where electrodes of an acceleration/deceleration stage, bend electrode and/or energy filter control a final energy or path of the ion beam to the workpiece. The bend electrode or an energy filter can form part of the acceleration/deceleration stage or can be positioned downstream. A scanning apparatus scans the ion beam and/or the workpiece, and a power source provides varied electrical bias signals to the electrodes. A controller selectively varies the electrical bias signals concurrent with the scanning of the ion beam and/or workpiece through the ion beam based on a desired ion beam energy at the workpiece. A waveform generator can provide the variation and synchronize the electrical bias signals supplied to the acceleration/deceleration stage, bend electrode and/or energy filter.