CLEANING APPARATUS FOR WAFER STORAGE CONTAINER

• Main Authors: MIYASAKO HISAAKI, ISHIHARA JUNJI, YAMAZAKI KATSUHIRO, NISHIBE YUKINOBU
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 27.03.2024
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; CLEANING; CLEANING IN GENERAL; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; PERFORMING OPERATIONS; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL; SEMICONDUCTOR DEVICES; TRANSPORTING

[과제] 세정된 웨이퍼 수납 용기의 수납 공간 내의 청정의 정도를 나타내는 파티클에 관한 정보를 출력하는 것. [해결수단] 실시형태에 따른 웨이퍼 수납 용기 세정 장치는, 셀 개구부 및 반도체 웨이퍼를 수납하는 수납 공간으로서 상기 셀 개구부에 연통하고 있는 수납 공간을 갖는 셀과, 상기 셀 개구부에 대하여 개폐 가능하게 장착되는 도어를 갖는 웨이퍼 수납 용기를 세정하는 웨이퍼 수납 용기 세정 장치로서, 본체 개구부 및 상기 본체 개구부에 연통하고 있는 세정 공간을 갖는 세정조 본체와, 상기 본체 개구부에 대하여 개폐 가능하게 설치되는 덮개부와, 상기 세정 공간 내에 설치되고, 상기 셀 개구부와 대향하는 상태로 상기 셀을 배치함과 함께 상기 셀 개구부와 대향하는 부분에 상기 수납 공간과 연통하는 관통 구멍이 형성되어 있는 배치부와, 상기 셀의 상기 수납 공간에 세정액을 토출하는 제1 토출부와, 상기 셀의 외측 부분에 세정액을 토출하는 제2 토출부와, 상기 관통 구멍과 연통함과 함께 상기 셀의 상기 수납 공간에 토출된 세정액을 배출하는 제1 배출부와, 상기 셀의 외측 부분을 경유한 세정액을 배출하는 제2 배출부와, 상기 제1 배출부에 의해 배출된 세정액의 파티클을 계측하는 파티클 계측부를 구비한다. According to an embodiment of the present disclosure, the cleaning apparatus includes a cleaning tank body having a body opening and a cleaning space; a lid provided to be openable and closable with respect to the body opening; a mounting stage provided in the cleaning space placing a shell of a wafer storage container; a first ejector that ejects a cleaning liquid into a storage space of the shell; a second ejector that ejects the cleaning liquid into an outer portion of the shell; a first discharge port that discharges the cleaning liquid ejected into the storage space of the shell; a second discharge port that discharges the cleaning liquid that has passed through the outer portion of the shell; and a particle counter that measures particles in the cleaning liquid discharged by the first discharge port.