LAMINATED BODY INCLUDING NOVOLAC RESIN AS PEELING LAYER
[과제] 지지체와 피가공물과의 사이에 박리가능하게 접착한 중간층을 갖고, 피가공물을 절단 등에 의해 분리하는 것이나, 웨이퍼 이면연마 등의 가공을 행하기 위한 적층체이며, 이 중간층은 적어도 지지체측에 접한 박리층을 포함하고, 박리층이 지지체를 개재하여 조사되는 190nm~600nm의 광을 흡수하여 변질되는 노볼락 수지를 포함하는 것이며, 기계적인 부가를 가하는 일 없이 분리되는 재료 및 방법을 제공한다. [해결수단] 지지체와 웨이퍼의 회로면과의 사이에 박리가능하게 접착한 중간층을 갖고 웨이퍼의 이면을 연마하기 위한 적층체이며, 이...
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Format | Patent |
Language | English Korean |
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18.03.2024
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Summary: | [과제] 지지체와 피가공물과의 사이에 박리가능하게 접착한 중간층을 갖고, 피가공물을 절단 등에 의해 분리하는 것이나, 웨이퍼 이면연마 등의 가공을 행하기 위한 적층체이며, 이 중간층은 적어도 지지체측에 접한 박리층을 포함하고, 박리층이 지지체를 개재하여 조사되는 190nm~600nm의 광을 흡수하여 변질되는 노볼락 수지를 포함하는 것이며, 기계적인 부가를 가하는 일 없이 분리되는 재료 및 방법을 제공한다. [해결수단] 지지체와 웨이퍼의 회로면과의 사이에 박리가능하게 접착한 중간층을 갖고 웨이퍼의 이면을 연마하기 위한 적층체이며, 이 중간층은 웨이퍼측에 접한 접착층과 지지체측에 접한 박리층을 포함하고, 박리층이 지지체를 개재하여 조사되는 190nm~600nm의 광을 흡수하여 변질되는 노볼락 수지를 포함하는 상기 적층체이다. 박리층의 광투과율이 190nm~600nm의 범위에서 1~90%이다. 광을 흡수하는 변질이 노볼락 수지의 광분해이다.
There is provided a laminated body for separating an object to be processed by cutting or the like, or for processing, for example, polishing a back surface of a water, the laminated body comprising an intermediate layer that is disposed between a support and the object to be processed and peelably adheres to the support and the object to be processed, wherein the intermediate layer includes at least a peeling layer in contact with the support, and the peeling layer contains a novolac resin that absorbs light with a wavelength of 190 nm to 600 nm incident through the support, resulting in modification, and a material and a method for separation without mechanical load.A laminated body for polishing a back surface of a wafer, the laminated body comprising an intermediate layer that is disposed between a support and a circuit surface of the wafer and peelably adheres to the support and the circuit surface, wherein the intermediate layer includes an adhesion layer in contact with the wafer and a peeling layer in contact with the support, and the peeling layer contains a novolac resin that absorbs light with a wavelength of 190 nm to 600 nm incident through the support, resulting in modification. The light transmittance of the peeling layer at a wavelength range of 190 nm to 600 nm may be 1 to 90%. The modification caused by absorption of light may be photodecomposition of the novolac resin. |
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Bibliography: | Application Number: KR20247006796 |