공차가 증가한 리소그래피 툴을 위한 시스템 및 방법

• Main Authors: WINTERS JASPER, VAN DE VEN EMIEL ANTON, VAN ZWET ERWIN JOHN, DE JAGER PIETER WILLEM HERMAN, VAN DER LANS MARCUS JOHANNES
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 15.03.2024
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS

리소그래피 툴을 사용하는 방법은, 각각이 렌즈릿의 행들을 갖는 제 1 마이크로 렌즈 어레이(MLA) 및 제 2 MLA에 대하여 기판을 스캐닝하는 단계를 포함한다. 제 1 MLA는 기능 렌즈릿 및 여분 렌즈릿을 가지며, 스캐닝 단계는, 제 1 MLA 및 제 2 MLA의 렌즈릿을 통해 광을 기판으로 전달하는 단계를 포함한다. 전달 단계는, 기능 렌즈릿을 통해 광을 전달하여 기판 상에 패턴을 형성하는 단계를 포함하며, 패턴은 제 1 MLA의 기능 렌즈릿과 제 2 MLA 간의 위치적 또는 회전적 오정렬로 인한 갭을 갖는다. 전달 단계는 또한 여분 렌즈릿을 통해 광을 전달하여 패턴의 갭을 채우는 단계를 포함한다. A method of use for a lithographic tool includes scanning a substrate relative to a first micro-lens array (MLA) and a second MLA each having rows of lenslets. The first MLA has functional lenslets and extra lenslets and the scanning includes delivering light through the lenslets of the first MLA and second MLA to the substrate. The delivering includes delivering light through the functional lenslets to form a pattern on the substrate, the pattern having gaps caused by a positional or rotational misalignment between the functional lenslets of the first MLA and the second MLA. The delivering also includes delivering light through the extra lenslets to fill the gaps in the pattern.