APPARATUS AND METHOD FOR CHARACTERIZING A MICROLITHOGRAPHIC MASK

• Main Authors: PERLITZ SASCHA, WEI SHAO CHI, DEGUENTHER MARKUS, BLUMRICH JOERG FREDERIK, THALER THOMAS, RUOFF JOHANNES, MATEJKA ULRICH, FELDMANN HEIKO
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 04.03.2024
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIRCHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES; MATERIALS THEREFOR; MEASURING; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS; TESTING

본 발명은 마이크로리소그라픽 마스크의 특징을 구하기 위한 장치 및 방법에 관한 것이다. 일 양상에 따라, 본 발명에 따른 장치는, 코히어런트 광을 방출하는 적어도 하나의 광원(105, 205, 405a, 405b, 605), 적어도 하나의 광원의 코히어런트 광으로부터 마스크(120, 220, 620, 720) 상에 회절-제한 광 스폿을 발생시키는 조명 광학 유닛(110, 210, 310, 311, 410, 510, 610, 710, 810), 마스크에 대한 회절-제한 광 스폿의 주사 움직임을 구현할 수 있게 하는 주사 디바이스, 센서 유닛(130, 230, 630, 730, 830), 센서 유닛 상에 입사하며 마스크로부터 유래한 광을 평가하기 위한 평가 유닛, 적어도 하나의 광원에 의해 방출되는 코히어런트 광의 일부분(145, 245)을 출사 결합하기 위한 출사 결합 요소(140, 240, 340), 및 출사 결합된 일부분의 세기를 포착하기 위한 세기 센서(150, 250)를 포함한다. The invention relates to an apparatus and a method for characterizing a microlithographic mask. According to one aspect, an apparatus according to the invention comprises at least one light source which emits coherent light, an illumination optical unit which produces a diffraction-limited light spot on the mask from the coherent light of the at least one light source, a scanning device, by use of which it is possible to implement a scanning movement of the diffraction-limited light spot relative to the mask, a sensor unit, and an evaluation unit for evaluating the light that is incident on the sensor unit and has come from the mask, an output coupling element for coupling out a portion of the coherent light emitted by the at least one light source, and an intensity sensor for capturing the intensity of this output coupled portion.