PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION PHOTOSENSITIVE RESIN LAYER USING THE SAME AND COLOR FILTER

감광성 수지 조성물, 이를 이용하여 제조된 감광성 수지막 및 컬러필터에 관한 것이다. 구체적으로, 본 발명의 일 구현예는 (A) 착색제; (B) 바인더 수지; (C) 광중합성 화합물; (D) 광중합 개시제; 및 (E) 용매를 포함하되, 상기 착색제는 염료를 포함하고, 상기 염료는 하기 수학식 1을 만족하는 감광성 수지 조성물을 제공한다: [수학식 1] 500 (㎚*AU) ≤ x*y < 658 (㎚*AU) 상기 수학식 1에서, x는 상기 염료를 10 중량%로 포함하는 상기 감광성 수지 조성물을 이용하여 제조된 감광성 수지막의 최...

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Main Authors KIM IEJU, CHO MYUNGHO
Format Patent
LanguageEnglish
Korean
Published 04.03.2024
Subjects
APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
BASIC ELECTRIC ELEMENTS
CINEMATOGRAPHY
ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
ELECTRICITY
ELECTROGRAPHY
HOLOGRAPHY
MATERIALS THEREFOR
OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
OPTICS
ORIGINALS THEREFOR
PHOTOGRAPHY
PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES
PHYSICS
SEMICONDUCTOR DEVICES
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Summary:감광성 수지 조성물, 이를 이용하여 제조된 감광성 수지막 및 컬러필터에 관한 것이다. 구체적으로, 본 발명의 일 구현예는 (A) 착색제; (B) 바인더 수지; (C) 광중합성 화합물; (D) 광중합 개시제; 및 (E) 용매를 포함하되, 상기 착색제는 염료를 포함하고, 상기 염료는 하기 수학식 1을 만족하는 감광성 수지 조성물을 제공한다: [수학식 1] 500 (㎚*AU) ≤ x*y < 658 (㎚*AU) 상기 수학식 1에서, x는 상기 염료를 10 중량%로 포함하는 상기 감광성 수지 조성물을 이용하여 제조된 감광성 수지막의 최대 흡수 파장(λmax)을 의미하고, y는 상기 최대 흡수 파장에서의 흡광도(Amax)를 의미한다.
Bibliography:Application Number: KR20220105729