ＥＵＶ 소스에서 타겟 재료의 액적을 생성하기 위한 장치 및 방법

본 발명은 EUV 방사선을 생성하기 위해 사용되는 액적을 가속시키기 위한 장치 및 방법에 관한 것으로, 이 장치는 조사(irradiation) 영역 및 액적 공급원으로 향하는 레이저 빔을 생성하는 장치를 포함한다. 액적 공급원은 액적으로 분해되는 스트림으로 노즐에서 나가는 유체를 포함하고, 그런 다음 그 액적들은 합체 된다. 액적을 가속시키기 위해 제공되는 가스가 스트림 방향으로 노즐을 지나 흐르게 된다. Apparatus for and method of accelerating droplets used to generate EUV...

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Main Authors ERSHOV ALEXANDER IGOREVICH, DRIESSEN THEODORUS WILHELMUS, TELKAR VIKAS GIRIDHAR, TREES DIETMAR UWE HERBERT
Format Patent
LanguageKorean
Published 28.02.2024
Subjects
ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
ELECTRICITY
X-RAY TECHNIQUE
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Summary:본 발명은 EUV 방사선을 생성하기 위해 사용되는 액적을 가속시키기 위한 장치 및 방법에 관한 것으로, 이 장치는 조사(irradiation) 영역 및 액적 공급원으로 향하는 레이저 빔을 생성하는 장치를 포함한다. 액적 공급원은 액적으로 분해되는 스트림으로 노즐에서 나가는 유체를 포함하고, 그런 다음 그 액적들은 합체 된다. 액적을 가속시키기 위해 제공되는 가스가 스트림 방향으로 노즐을 지나 흐르게 된다. Apparatus for and method of accelerating droplets used to generate EUV radiation that comprise an arrangement producing a laser beam directed to an irradiation region and a droplet source. The droplet source includes a fluid exiting a nozzle (200) in a stream that breaks up into droplets that then undergo coalescence. A gas provided for the purpose of accelerating the droplets is caused to flow past the nozzle in a streamwise direction.
Bibliography:Application Number: KR20237042568