METROLOGY DATA CORRECTION USING IMAGE QUALITY METRIC

• Main Authors: FANG WEI, WANG FUMING, HUNSCHE STEFAN
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 23.02.2024
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS

본 명세서에서는 패터닝 프로세스의 계측 데이터를 보정하기 위한 방법이 설명된다. 방법은 (i) 패터닝 프로세스를 겪은 기판의 계측 데이터(901) 및 (ii) 기판의 계측 데이터의 품질을 정량화하는 품질 메트릭(902, 예컨대 포커스 인덱스)을 획득하는 단계(P92); 품질 메트릭과 계측 데이터 사이의 상관관계를 확립하는 단계(P94); 및 품질 메트릭과 계측 데이터 사이의 상관관계에 기초하여 계측 데이터에 대한 보정을 결정하는 단계(P96)를 포함한다. A method for correcting metrology data of a...