광학 장치, 목표 변형을 설정하기 위한 방법, 및 리소그래피 시스템

• Main Authors: HELLER PASCAL, KOENIGER ANDREAS, GWOSCH KLAUS, MANGER MATTHIAS
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 01.02.2024
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS

본 발명은 광학 표면(3)을 포함하는 적어도 하나의 광학 요소(2)와 광학 표면(3)을 변형하기 위한 하나 이상의 액추에이터(4)를 갖는, 리소그래피 시스템(100, 200)용 광학 장치(1)에 관한 것이다. 본 발명에 따르면, 광학 요소(2)는 광학 표면(3)의 변형을 결정하기 위한 스트레인 게이지 디바이스(5)를 포함하고 스트레인 게이지 디바이스(5)는: - 측정 방사선(9)의 측정 스펙트럼(8)을 생성하기 위한 적어도 하나의 경로 길이 디바이스(7)로서, 측정 방사선(9)을 위한 격자 디바이스(7a) 및/또는 측정 방사선(9)을 위한 공진기 디바이스(7c)를 포함하는, 경로 길이 디바이스(7), 및/또는 - 적어도 하나의 도파로(11)를 포함하고, 적어도 하나의 도파로(11) 및/또는 적어도 하나의 격자 디바이스(7a) 및/또는 적어도 하나의 공진기 디바이스(7c)는 기판 요소(10)에 의해 형성된다. An optical apparatus for a lithography system has at least one optical element comprising an optical surface. The optical apparatus also has one or more actuators for deforming the optical surface. The optical element comprises a strain gauge device for determining the deformation of the optical surface. The gauge device comprises: a) at least one path length device for generating a measurement spectrum of a measurement radiation, wherein the path length device comprises a grating device for the measurement radiation and/or a resonator device for the measurement radiation; and/or b) at least one waveguide, wherein the at least one waveguide and/or the at least one grating device and/or the at least one resonator device are formed by the substrate element.