데이터 처리 디바이스 및 방법, 하전 입자 평가 시스템 및 방법

• Main Authors: KUIPER VINCENT SYLVESTER, WIELAND MARCO JAN JACO
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 29.01.2024
• Subjects: CALCULATING; COMPUTING; COUNTING; IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL; PHYSICS

하전 입자 평가 시스템에 의해 생성된 샘플 이미지들에서 결함들을 검출하기 위한 데이터 처리 디바이스가 개시되며, 상기 디바이스는: 입력 모듈, 필터 모듈, 기준 이미지 모듈, 및 비교기를 포함한다. 입력 모듈은 하전 입자 평가 시스템으로부터 샘플 이미지를 수신하도록 구성된다. 필터 모듈은 샘플 이미지에 필터를 적용하여 필터링된 샘플 이미지를 생성하도록 구성된다. 기준 이미지 모듈은 1 이상의 소스 이미지에 기초한 기준 이미지를 제공하도록 구성된다. 비교기는 샘플 이미지에서 결함들을 검출하기 위해 기준 이미지와 필터링된 샘플 이미지를 비교하도록 구성된다. A data processing device for detecting defects in sample images generated by a charged particle assessment system, the device comprising: an input module, a filter module, a reference image module and a comparator. The input module is configured to receive a sample image from the charged particle assessment system. The filter module is configured to apply a filter to the sample image to generate a filtered sample image. The reference image module is configured to provide a reference image based on one or more source images. The comparator is configured to compare the filtered sample image to the reference image so as to detect defects in the sample image.