PHOTOACTIVE COMPOUNDS PHOTORESIST COMPOSITIONS INCLUDING THE SAME AND PATTERN FORMATION METHODS
유기 양이온 및 화학식 1로 나타낸 음이온을 포함하는 광활성 화합물이 제공된다: [화학식 1] JPEGpat00116.jpg4134 식 중, X는 유기 기이고; Y1 및 Y2는 각각 독립적으로 비-수소 치환체이고; Y1 및 Y2는 함께 선택적으로 고리를 형성하고; Z2는 수소, 할로겐, 치환 또는 비치환된 C1-30 알킬, 치환 또는 비치환된 C3-30 시클로알킬, 치환 또는 비치환된 C3-30 헤테로시클로알킬, 치환 또는 비치환된 C6-50 아릴, 치환 또는 비치환된 C7-50 아릴알킬, 치환 또는 비치환된 C7-50 알킬아릴,...
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Format | Patent |
Language | English Korean |
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23.01.2024
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Summary: | 유기 양이온 및 화학식 1로 나타낸 음이온을 포함하는 광활성 화합물이 제공된다: [화학식 1] JPEGpat00116.jpg4134 식 중, X는 유기 기이고; Y1 및 Y2는 각각 독립적으로 비-수소 치환체이고; Y1 및 Y2는 함께 선택적으로 고리를 형성하고; Z2는 수소, 할로겐, 치환 또는 비치환된 C1-30 알킬, 치환 또는 비치환된 C3-30 시클로알킬, 치환 또는 비치환된 C3-30 헤테로시클로알킬, 치환 또는 비치환된 C6-50 아릴, 치환 또는 비치환된 C7-50 아릴알킬, 치환 또는 비치환된 C7-50 알킬아릴, 치환 또는 비치환된 C6-50 아릴옥시, 치환 또는 비치환된 C3-30 헤테로아릴, 치환 또는 비치환된 C4-30 알킬헤테로아릴, 치환 또는 비치환된 C4-30 헤테로아릴알킬, 또는 치환 또는 비치환된 C3-30 헤테로아릴옥시이고; Z2는 그 구조의 일부로서 하나 이상의 2가 연결기를 선택적으로 추가로 포함하고; Z2 및 Y1 또는 Y2 중 하나는 함께 선택적으로 고리를 형성하고; X 및 Z2는 함께 선택적으로 고리를 형성하고; X 및 Y1 또는 Y2 중 하나는 함께 선택적으로 고리를 형성한다.
A photoactive compound including an organic cation; and an anion represented by Formula (1):wherein X is an organic group; Y1 and Y2 are each independently a non-hydrogen substituent; Y1 and Y2 together optionally form a ring; Z2 is hydrogen, halogen, substituted or unsubstituted C1-30 alkyl, substituted or unsubstituted C3-30 cycloalkyl, substituted or unsubstituted C3-30 heterocycloalkyl, substituted or unsubstituted C6-50 aryl, substituted or unsubstituted C7-50 arylalkyl, substituted or unsubstituted C7-50 alkylaryl, substituted or unsubstituted C6-50 aryloxy, substituted or unsubstituted C3-30 heteroaryl, substituted or unsubstituted C4-30 alkylheteroaryl, substituted or unsubstituted C4-30 heteroarylalkyl, or substituted or unsubstituted C3-30 heteroaryloxy; Z2 optionally further comprises one or more divalent linking groups as part of its structure; Z2 and one of Y1 or Y2 together optionally form a ring; X and Z2 together optionally form a ring; and X and one of Y1 or Y2 together optionally form a ring. |
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Bibliography: | Application Number: KR20230088231 |