프로세스 제어를 위한 인과적 합성곱 네트워크
반도체 제조 프로세스를 구성하기 위한 방법으로서, 반도체 제조 프로세스 내의 프로세스 단계의 제 1 동작과 연관된 연속 측정들에 기반하여 제 1 파라미터의 복수 개의 제 1 값을 획득하는 단계; 인과적 합성곱 신경망을 사용하여, 제 2 파라미터의 예측치를 제 1 값에 기반하여 결정하는 단계; 및 제 2 파라미터의 예측치를 반도체 제조 프로세스 내의 프로세스 단계의 후속 동작을 구성하는 데에 사용하는 단계를 포함하는, 반도체 제조 프로세스 구성 방법. A method for configuring a semiconductor manuf...
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Format | Patent |
Language | Korean |
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11.01.2024
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Summary: | 반도체 제조 프로세스를 구성하기 위한 방법으로서, 반도체 제조 프로세스 내의 프로세스 단계의 제 1 동작과 연관된 연속 측정들에 기반하여 제 1 파라미터의 복수 개의 제 1 값을 획득하는 단계; 인과적 합성곱 신경망을 사용하여, 제 2 파라미터의 예측치를 제 1 값에 기반하여 결정하는 단계; 및 제 2 파라미터의 예측치를 반도체 제조 프로세스 내의 프로세스 단계의 후속 동작을 구성하는 데에 사용하는 단계를 포함하는, 반도체 제조 프로세스 구성 방법.
A method for configuring a semiconductor manufacturing process, the method comprising: obtaining a plurality of first values of a first parameter based on successive measurements associated with a first operation of a process step in the semiconductor manufacturing process; using a causal convolutional neural network to determine a predicted value of a second parameter based on the first values; and using the predicted value of the second parameter in configuring a subsequent operation of the process step in the semiconductor manufacturing process. |
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Bibliography: | Application Number: KR20237040412 |